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CVD设备供气设备 [复制链接]

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气体供气设备是CVD设备的配套设备之一,它主要用来提供气体给CVD设备使用,同时也可以用于其他行业。

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气体的种类:

(1)空气:

空气的纯度要求较高(一般99.5%以上),但空气中含有杂质、水分和二氧化碳等物质,这些物质会影响到CVD设备的性能和使用寿命。因此,对于空气的要求主要是:洁净度要高;含氧量要低(一般小于0.02%);无腐蚀性或腐蚀性要小;温度不能太高(一般在20°C以下)。

(2)氧气:

氧气是制造金属有机化学品的原料之一。由于金属有机化合物在高温下会分解为CO2,所以通常采用高纯度的氧气作为供气源来制造金属有机化学品。目前使用的有氩气和氮气的混合气体和压缩的氧气两种形式。

(3)氢气:

氢气具有很高的反应活性、热稳定性及化学惰性等特点,且氢分子结构简单易于合成、储存及运输等特性而得到广泛应用。氢气是一种常用的化工原料,其用途非常广泛:可用做燃料;用作催化剂;用于制取氨水、尿素、硫酸铵等多种无机化肥以及生产乙烯树脂和乙二醇等化工产品等等。

(4)其它特殊气体:

除上述三种常用气体外还有多种特殊气体可供选择:如稀有气体的应用领域主要有电子工业中作发光剂用光敏剂及激光器中的介质材料用稀有元素氟化等。

(5)惰性气体:

主要用于制备一些特种制品如陶瓷坯体用的釉浆料及其它陶瓷制品用的釉料等。

(6)液体:

包括液态烃类溶剂和液态烃类的混合物两类。

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